Компания утверждает, что ее технология позволяет создавать элементы микросхем в 10 раз меньшего размера, чем в современных литографических системах, с шириной луча всего 0,1 нанометра по сравнению с длиной волны 13,5 нм, используемой в EUV-сканерах компании ASML. К 2029 году компания Lace планирует запустить тестовый инструмент на экспериментальном производстве.