挖角 ASML 老將、用假身分掩護 華為領軍中國版「曼哈頓計畫」打造 EUV 設備甩開美國

今年 4 月 ASML 執行長才公開表示中國要發展出這種技術「還需要很多很多年」,但這台原型機的存在,證明中國的進展遠超外界想像。

《造光者》作者親解,ASML 如何成為奈米維度的 EUV 霸主

荷蘭記者 Marc Hijink 耗時三年,訪談近 300 人完成《造光者》,揭露 ASML 如何從飛利浦的失敗專案,躍升全球唯一 EUV 光刻機供應商。

晶片王者結盟 AI 新星!ASML 豪擲 13 億歐元,傳將入主法國 Mistral AI 成最大股東

ASML 豪擲 13 億歐元領投法國 AI 新創 Mistral AI 最新一輪募資,使其估值飆升至 100 億歐元。此舉不僅讓 ASML 成為 Mistral 最大股東,也強化了歐洲科技主權,並有助於減少歐洲對美中 AI 模型的依賴。

ASML 執行長為何不恐懼 DeepSeek?了解什麼是「傑文斯悖論」

他認為,DeepSeek R1 這樣的低成本 AI 模型,反而會刺激市場對 AI 晶片的需求,而非減少。

半導體新星?美國實驗室發明新雷射,效率比現有 EUV 提升 10 倍

這項突破性技術最引人注目之處,在於其有望解決目前 EUV 技術最棘手的「耗能問題」。

俄國公布自家 EUV 曝光機路線圖,目標:比 ASML 低便宜、更簡易

即使是美國和日本這樣的技術大國,也未能在 EUV 領域與 ASML 競爭,這個計畫雖反映了俄羅斯在半導體產業追求技術自主的決心,但其實際成效還有待觀察。

重大技術突破!中國稱國產 DUV 已可生產 8 奈米及以下晶片

這台中國產 DUV 據稱可生產 8 奈米及以下晶片,中國自媒體轉發消息生,「中國自己的 DUV 曝光機終於來了」。

ASML 分享新一代 High NA EUV 微影,每小時可曝光 185 片晶圓

ASML 今日分享該公司新一代 High NA EUV 微影技術,盼協助晶片製造商簡化先進製程製造工序、提高產能,並降低每片晶圓生產用電,而 High NA EUV(0.55 NA)將與現行的 EUV(0.33 NA)在設計方面有通用性,可降低客戶的導入風險和研發成本。

美中晶片戰再起!美國擬禁售設備給中國,全球晶片股重挫

川普、拜登可謂是向全球半導體產業連拋炸彈......

員工離職率低於全球半導體業平均!ASML 如何挑出「待得住」的人才?

ASML 最重視人才的哪些特質?該如何準備 ASML 的面試?看看 ASML 台灣暨東南亞人資長劉伯玲怎麼說。