Runway Überblick

Runway ist ein eleganter UML-Designer, der sowohl einfach als auch leistungsstark ist. Er bietet Ihnen alle wichtigen Funktionen, die Sie in einem Diagramm- und Vektorgestaltungstool benötigen, sowie ein benutzerfreundliches Klassendiagramm-Tool ohne all den zusätzlichen Ballast, zu einem erschwinglichen Preis.

Runway ist großartig für Programmierer und Webdesigner, die nach einem einfachen Tool suchen, um schnell Flussdiagramme zu entwerfen, Wireframes zu erstellen oder Modellbeziehungen zu visualisieren, ohne sich in einem Meer von verwirrenden und überflüssigen Funktionen zu verlieren. Runway unterstützt "verbundene" Linien. Beim Ändern der Größe von Linien schnappen die Linien magnetisch an andere Formen. Wenn Sie dann die verbundene Form über die Leinwand ziehen, passen sich die verbundenen Linien ebenfalls an. Runway bietet "intelligente" Pfade, die verwendet werden können, um Kästen und Formen mit glatten, geschwungenen Linien zu verbinden, ohne viel fummeln zu müssen. Runway enthält auch ein leistungsstarkes Bézier-Pfad-Tool zum Erstellen von Vektorgrafiken nahezu jeder Form oder Beschreibung. Runway ist ein hervorragendes Vektorgrafik-Tool zum Entwerfen von Symbolen und anderen Grafiken mit Bézier-Pfaden.

Schließlich können Sie, wenn Sie fertig sind, Ihre Kompositionen in gängigen Bildformaten wie PNG, JPEG, TIFF oder als mehrseitige PDF exportieren.

Was ist neu in Version 2.0

Version 2.0:

Neu

Unterstützung für den Dunkelmodus
Native Unterstützung für Macs mit Apple Silicon

Behoben

Fehlerbehebungen für Copy/Paste-Probleme, die in späteren Versionen von MacOS Big Sur auftraten
"Eckenanker" wurde beim Ändern der Leinwandgröße auf eine "Voreinstellung" korrekt beachtet