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德国慕尼黑地方法院（Landgericht München I）于当地时间6月18日就英飞凌科技与英诺赛科之间涉及氮化镓（GaN）技术的两项进一步专利侵权案件作出判决（分别基于一项专利及一项实用新型），均裁定英飞凌胜诉。
此案涉及中国公司英诺赛科未经授权使用英飞凌已取得专利的氮化镓技术。根据本次判决，法院禁止英诺赛科在德国境内制造、销售及推广更多侵权产品。此外，法院还裁定英诺赛科需向英飞凌支付损害赔偿。
此次判决标志着英诺赛科在相关系列诉讼中的第三次和第四次败诉，上述每项判决均认定英诺赛科的产品侵犯了英飞凌的专利。此前，德国及美国的法院和监管机构已多次裁定英诺赛科产品侵犯英飞凌的知识产权。其中包括2025年8月1日德国的初审裁决，以及2026年5月7日美国国际贸易委员会（ITC）全体委员会裁定英诺赛科在氮化镓技术领域侵犯了英飞凌的一项专利。目前，围绕英飞凌其他专利的侵权诉讼程序仍在美国和德国持续推进中。
氮化镓在实现高性能、高能效的功率系统中发挥着关键作用，广泛应用于可再生能源系统、数据中心、工业自动化以及电动汽车（EV）等多个领域。
英飞凌科技高级副总裁、氮化镓系统业务线负责人Johannes Schoiswohl表示：“此次裁决充分证明了我们在氮化镓领域专利组合的价值，也再次彰显了我们坚决捍卫知识产权、维护市场公平竞争的承诺。”
英飞凌持续巩固其作为氮化镓市场领先的垂直整合制造商（IDM）的地位，拥有业界最广泛的知识产权组合（涵盖约450个氮化镓专利家族）。英飞凌将继续致力于推动创新发展与半导体技术进步，以应对全球在低碳化与数字化转型方面面临的关键挑战。
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