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minimum line widthとは 意味・読み方・使い方
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「minimum line width」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 66件
1. Integrated circuits whose minimum line width which is 0.5 micrometers or more発音を聞く 例文帳に追加
（一） 最小線幅が〇・五マイクロメートル以上のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
(a) Microprocessors, microcomputers, or microcontrollers with whose minimum line width 0.5 micrometers or more発音を聞く 例文帳に追加
イ 最小線幅が〇・五マイクロメートル以上のもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
A preferable spacing between the first space and the second space is the minimum line width not exceeding one-half the predetermined minimum line width.例文帳に追加
前記第２空間は、前記第１空間から前記１／２以下の最小線幅の距離を置いて形成されていると好適である。 - 特許庁
The integrated error is added to the next line voltage, and, when the pulse width exceeds the minimum pulse width, line voltage pulses of the integrated pulse width are outputted.例文帳に追加
積算誤差は次回の線間電圧に加算し、パルス幅が最小パルス幅以上となったら、積算したパルス幅の線間電圧パルスを出力する。 - 特許庁
1. Equipment that contains a minimum line width of plus/minus 3 sigma distribution within a range of plus/minus 5%, and that can achieve a minimum line width of 180 nanometers or less.発音を聞く 例文帳に追加
（一） 最小線幅のプラスマイナス三シグマの分布をプラスマイナス五パーセントの範囲に収め、かつ、一八〇ナノメートル以下の最小線幅を実現することができるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム
Next, the sub-field, where the area rate is minimum, including the pattern element of minimum line width is selected, and a non-pattern part area rate thereof is defined as a minimum area rate.例文帳に追加
次に、面積率が最小で且つ最小線幅のパターン要素を含むサブフィールド２０を選択し、その非パターン部面積率を最小面積率と定める。 - 特許庁
The first scribe line 18 is as wide as a minimum width that allows cutting of the semiconductor substrate 10.例文帳に追加
第１のスクライブライン１８の幅は、半導体基板１０を切断し得る最小の幅に等しい。 - 特許庁
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「minimum line width」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 66件
The line width d_1 and the erasing width d_2 are equal to or larger than a minimum detection unit d_3 of the printed matter (d_3≤d_1≤d_2).例文帳に追加
また、線幅ｄ_1及び消去幅ｄ_2は、印刷物５００の最小検出単位ｄ_3と同一又はそれよりも大きい（ｄ_3≦ｄ_1≦ｄ_2）。 - 特許庁
The protective ink 300 is then removed to form a conductive pattern 250 with a minimum line width of not greater than 150 μm.例文帳に追加
そして、保護インク３００を除去して、最小線幅が１５０μｍ以下の導電パターン２５０を形成する。 - 特許庁
Specifically, a combination to make a minimum distance equal to or less than a line width is stored as a neighboring graph item.例文帳に追加
具体的には、最小距離が線幅以下となる組み合わせを隣接するグラフ項目として記憶する。 - 特許庁
An aspect ratio of the image signal processing chip 40 is at least twice or more of an aspect ratio of the image sensor chip 30, and a minimum line width of a metal line embodied in the image sensor chip 30 is at least 1.5 times or more the minimum line width of a metal line embodied in the image signal processing chip 40.例文帳に追加
イメージ信号処理チップ４０の横縦比は、イメージセンサーチップ３０の横縦比の少なくとも２倍以上であり、イメージセンサーチップ３０に具現されたメタルラインの最小線幅は、イメージ信号処理チップ４０に具現されたメタルラインの最小線幅の少なくとも１．５倍以上である。 - 特許庁
A line width L is divided into three stages except the grid-shaped wiring, and a minimum space width Smin of each stage is previously specified so that the status of Lmax/(Lmax+Smin)≤Pmax can be satisfied relatively to a maximum line width Lmax of each stage.例文帳に追加
格子状配線以外については、ライン幅Ｌを３段階に分け、各段階の最大ライン幅Ｌmaxに対しＬmax／（Ｌmax＋Ｓmin）≦Ｐmaxを満たすように各段階の最小スペース幅Ｓminを予め規定しておく。 - 特許庁
Then, the number of nozzles X where '|C-B|' becomes minimum, when the specified line width of the black bar is set to C, is computed.例文帳に追加
そして、黒バーの規定線幅をＣとしたときに“｜Ｃ−Ｂ｜”が最小となるときのノズル数Ｘを算出する。 - 特許庁
To obtain a method for forming a trench having a minimum line width exceeding resolution of a picture process inside an insulation film.例文帳に追加
写真工程の解像度を越える最小線幅を有するトレンチを絶縁膜の内に形成する方法を提供する。 - 特許庁
After a gate insulating film 4 is formed on a main face of a semiconductor substrate 1, a line-shaped dummy gate which has a line width smaller than a minimum processing dimension and a pitch which is two times the minimum processing dimension is formed.例文帳に追加
半導体基板１の主面にゲート絶縁膜４を形成した後、ライン幅が最小加工寸法よりも小さく、ピッチが最小加工寸法の２倍のライン状のダミーゲートを形成する。 - 特許庁
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